半導體化學品主要包括蝕刻液、剝離液、高純試劑、清洗液、冷卻液和含氟功能材料等系列產品，應用于顯示面板、IC集成電路領域，是生產制程中的光刻、顯影、蝕刻、剝離、清洗等制造工藝的關鍵化學品材料，對芯片的良率提升、顯示面板畫質的清晰度等起著重要的作用。
新宙邦憑借二十余年深耕精細電子化學品的經驗積累，依靠高品質的產品和完善的質量管理體系贏得了客戶信任，公司相關產品的純度、金屬雜質含量、顆粒數量和粒徑、品質一致性、穩定性均滿足要求，并且穩定供應行業客戶。
未來新宙邦將充分利用自身技術、資源、地域等優勢，不斷完善生產基地的布局，持續提升產品研發和自主創新的能力，更好的為行業和客戶創造價值，提供優質的產品和服務。
高純化學品主要用于晶圓清洗、光刻、腐蝕等工序中，主要產品有雙氧水、氨水、硫酸、異丙醇、氟化銨等，高純度、高潔凈度、少金屬雜質，成熟穩定。
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