U-III的發布標志著表面污染監測技術邁向納米級精度時代。行業分析師指出，該設備通過量化顆粒數據與智能反饋機制，將推動半導體制造從“經驗驅動”向“數據驅動”轉型，進一步降低因微粒污染導致的良率損失，目前，U-III系列已獲得多家國際頭部晶圓廠的采購意向。關鍵性能指標
分辨率達0.1微米，支持納米級顆粒檢測；
配備靜態采樣模式，提升測量精度和穩定性；符合ISO-14644-9表面粒子控制標準，滿足半導體制造中對潔凈度的嚴苛要求。
行業應用優勢
減少50%以上的自凈時間及顆粒數，縮短PM周期，提升制造效率；
通過實時監測表面污染，降低因顆粒導致的良率損失和可靠性風險；
適用于晶圓、光學元件、精密電路板等對潔凈度敏感的生產環節。
系統集成設計
支持USB數據導出和軟件升級，便于與工廠智能管理系統對接；
采用雙電池熱插拔設計，適應連續生產環境的需求。
該系列設備通過量化表面污染數據，為半導體制造中的過程控制提供標準化依據，從而優化生產良率和產品可靠性。
傳感器：第七代雙激光窄光檢測器，壽命>200000次
服務項目
